Exposición/desarrollo litográfico

La exposición/desarrollo litográfico es un proceso clave para formar patrones de circuitos de paso fino en obleas. Al combinar tecnologías avanzadas de exposición y desarrollo, es posible crear patrones de circuitos de paso fino en la superficie de la oblea.
En los últimos años, junto con la miniaturización de semiconductores, se ha adoptado la tecnología de exposición a la EUV, y se han introducido técnicas de control de desarrollo de alta precisión para satisfacer las demandas derivadas del uso de la tecnología de la EUV.
Presentamos varios análisis que se centran en el análisis de las propiedades de las sustancias orgánicas y el análisis de impurezas.